MORFOLOGÍA Y ESTABILIDAD TÉRMICA DE PELÍCULAS DELGADAS DE FLUORURO DE ALUMINIO SOBRE Cu (100)

G RUANO; JC MORENO-LOPEZ; M CG PASSEGGI; RA VIDAL; J FERRON; MA NIÑO; R MIRANDA; JJ MIGUEL

Malargue

Congreso; Reunion Anual AFA 2011; 2011

Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica. Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) me diante una combinación de técnicas experimentales de físic a de superficies. La deposición a temperatura ambie nte resulta en la decoración de escalones seguida por l a formación de islas dendríticas bidimensionales qu e coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra- delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) result an morfológicamente inestables al calentar; parte de l a película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie d e Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor s on estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irra diación electrónica también ha sido caracterizado m ediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando q ue incluso dosis de irradiación reducidas de electr ones pueden producir una descomposición significativa del fluor uro de aluminio, resultando en la liberación de mol éculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas ca racterísticas hacen del fluoruro de aluminio un mat erial interesante para aplicaciones en espintrónica.