CRECIMIENTO DE MONOCAPAS AUTOENSAMBLADAS DE 1,4-BENCENODIMETANOTIOL EN SUPERFICIES DE Au(111) Y Ag(111)

LEONARDO SALAZAR ALARCÓN, LUCILA J. CRISTINA, JULIO E. GAYONE, ESTEBAN A. SÁNCHEZ Y OSCAR GRIZZI

San Carlos de Bariloche

Workshop; Workshop in honor of Victor Hugo Ponce: 'Advances in atomic collisions and particle-surface interactions'.; 2011

En este trabajo se estudia el crecimiento de monocapas autoensambladas (SAMs) de moléculas de 1,4bencenodimetanotiol (BDMT) en ultra alto vacío y desde fase vapor sobre las superficies de Au(111) yAg(111) mediante espectroscopia de átomos emitidos (DRS)[1]. Esta técnica es muy adecuada para estudiar(SAMs) funcionalizadas con grupos SH ya que posee una alta sensibilidad a los átomos de la última capa,lo cual permite identificar si las monocapas crecidas poseen átomos de S expuestos al vacío.A temperaturaambiente y a bajas dosis de BDMT, las moléculas se adsorben en una configuración horizontal (faseacostada) y no se observa S expuesto al vacío. Aumentando la dosis por encima de 10^6 Langmuir, seforma lafase autoensamblada (SAM), con S expuesto hacia el vacío. Para el sustrato enfriado a temperaturasdel orden de 250K se forman multicapas para dosis de cientos de Langmuir. En ambos sustratos y pararecubrimientos correspondientes a la fase acostada, estudios en función de la temperatura indican que unaalta fracción de las moléculas se desorben enteras para temperaturas del orden de 450 K, quedando enla superficie una pequeña fracción de S. Por el contrario, el mismo estudio realizado para la fase SAMmuestra que el S expuesto hacia el vacío permanece hasta temperaturas cercanas a 370 K. Por encimade esta temperatura las moléculas se reorganizan dejando la interface con el vacío sin átomos de Sexpuestos. Para temperaturas superiores a 450K se observa la disociación de la molécula, dejando trazas deS yuna gran cantidad de C en la superficie.Referencias: [1] Salazar Alarcon, Leonardo; Chen, Lin; Esaulov,Vladimir; Gayone, Julio; Sanchez, Esteban; Grizzi, Oscar, The Journal of Physical Chemistry C114 (2010)19993-19999.