Simulación por el método de Monte Carlo de la deposición electroquímica de un metal sobre defectos superficiales

S.A. CANNAS; E.M. CARRERAS; ,E.P.M. LEIVA; N. LUQUE

Vaquerías - Córdoba - Argentina

Encuentro; Segundo Encuentro de Física y Química de Superficies; 2006

En este trabajo modelamos la deposición electroquímica inducida por defectos mediante simulaciones atomísticas de Monte Carlo Gran Canónico, usando potenciales de átomo embebido[1]. Presentamos el crecimiento de diferentes tipos de estructura en estos defectos bajo diferentes condiciones. Dependiendo del sistema, se encuentran notables diferencias en la forma en que los defectos son decorados, así como en la energética del sistema. Cuando la interacción de los átomos de adsorbato con el sustrato es menos favorable que la interacción del adsorbato consigo mismo, los conglomerados crecen en forma escalonada por encima del nivel de la superficie. En el caso opuesto, el llenado de la cavidad ocurre en forma escalonada, sin la observación del crecimiento del conglomerado por encima del nivel de la superficie. A los efectos de elaborar un modelo minimalista del presente problema, estos estudios se comparan con simulaciones realizadas empleando un modelo reticular con un potencial de interacción de a pares a primeros vecinos que presenta un mínimo de parámetros libres. LITERATURA [1] S. M. Foiles, M.I. Baskes, M.S. Daw, Phys. Rev. B 33 (1986) 7983.