PERSONAL DE APOYO
BENVENUTO ariel Gaston
artículos
Título:
Obtención de Películas Delgadas de Silicio Policristalino a partir de Clorosilanos en Reactores de CVD
Autor/es:
A.G. BENVENUTO; J.A. SCHMIDT; R.H. BUITRAGO
Revista:
Anales AFA
Editorial:
Asociación Física Argentina
Referencias:
Año: 2011 vol. 22 p. 56 - 59
ISSN:
0327-358X
Resumen:
En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposición y caracterización estructural de láminas delgadas de silicio policristalino. Como método de deposición se usó el CVD térmico a partir de triclorosilano, y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura. Se logró la deposición de películas policristalinas, con tamaños de grano entre 0,2 y 0,5 micrones, a temperaturas de entre 730 y 840 ºC. Las muestras presentan un crecimiento tipo columnar y una clara orientación cristalina (2 2 0). Estas características serían propicias para el transporte electrónico en la dirección perpendicular al sustrato.
