Estudio DFT de la adsorción de átomos y dímeros de Cu, Ag y Au sobre SiO2

RICARDO M. FERULLO; GRACIELA R. GARDA; PATRICIA G. BELELLI; MARÍA M. BRANDA; NORBERTO J. CASTELLANI

Isla de Margarita, Venezuela

Congreso; XXXI Congreso Internacional de Químicos Teóricos de Expresión Latina; 2005

UC

El estudio de la interfaz metal-óxido representa un campo de gran interés debido a que involucra una variedad de aplicaciones en catálisis, electroquímica, microelectrónica y en sensores gaseosos. En particular muchos catalizadores usados en la práctica están compuestos por partículas de metales de transición (el componente activo) depositadas en un óxido (el soporte) de gran área específica en donde dicha partícula se deposita. Uno de los soportes más utilizados es la sílice debido a que es inerte a la mayoría de las reacciones catalíticas. Se ha establecido que los defectos en su superficie, como ≡Si⋅, ≡Si-O⋅ y ≡Si-O¯ son muy reactivos y probablemente sean sitios en los cuales tenga lugar el crecimiento de la partícula metálica. En el presente trabajo se estudia la interacción de átomos individuales y dímeros de Cu, Ag y Au con el defecto superficial ≡Si-O⋅. El estudio de la adsorción de dímeros es de particular interés ya que es la situación más simple en la que se puede analizar la influencia del soporte en la unión metal-metal. Los cálculos fueron realizados dentro del formalismo de la Teoría del Funcional Densidad (DFT) utilizando el funcional híbrido B3LYP. Los orbitales moleculares se construyeron con una base 6-31G(d) para el tetraedro central, 6-31G para los tetraedros periféricos y LANL2DZ para los metales.