Caracterización estructural de películas delgadas de titanio crecidas por arco catódico en función del espesor

M. FAZIO; D. VEGA; A. KLEIMAN; D. COLOMBO; A. MÁRQUEZ

Buenos Aires

Conferencia; Conferencia NANO 2016; 2016

Las películas delgadas detitanio policristalino han sido ampliamente empleadas como intercapa entresustratos y diferentes recubrimientos para mejorar la adhesión, la resistenciaa la corrosión y el desgaste, y promover el crecimiento de fases cristalinas1. El espesor dela intercapa influye en el comportamiento del recubrimiento, sin embargo muypocos estudios se han realizado sobre las propiedades de estos films en funciónde su espesor. En elpresente trabajo se ha estudiado la estructura cristalina de películas delgadasde Ti crecidas por arco catódico sobre silicio monocristalino (100) y se haencontrado una dependencia de la misma con respecto al espesor del film. Se haobservado la presencia de la fase FCC del Ti hasta un espesor crítico de 300nm, valor mucho mayor al reportado para otros procesos de crecimiento2. A espesores mayores, se ha encontrado que las películasexhiben la fase α usual con una orientación preferencial en la dirección [100].Estos resultados se condicen con un modelo de crecimiento basado en el?matching? entre las estructuras cristalinas del film y el sustrato de silicio.