INVESTIGADORES
COLOMBO diego Alejandro
congresos y reuniones científicas
Título:
Recubrimientos PVD sobre ADI: efecto de los parámetros del proceso sobre las características de los recubrimientos y la microestructura de los sustratos
Autor/es:
D.A. COLOMBO; M.D. ECHEVERRÍA; O.J. MONCADA; J.M. MASSONE
Lugar:
Rosario
Reunión:
Congreso; 11º Congreso Binacional de Metalurgia y Materiales SAM-CONAMET 2011; 2011
Resumen:
En este trabajo se aplican recubrimientos PVD de TiN y CrN sobre
sustratos de ADI austemperados a 360ºC, utilizando un reactor
industrial, mediante la técnica de plateado iónico con arco catódico.
Los resultados se comparan con los obtenidos en trabajos previos para
otras condiciones de deposición. Se analiza el efecto de los parámetros
del proceso PVD sobre las características de los recubrimientos y sobre
la microestructura de los sustratos.Los resultados muestran que
diferentes materiales de recubrimiento y condiciones de deposición, no
provocan cambios significativos en la topografía ni en la adherencia de
los recubrimientos, dentro de los rangos evaluados. Bajos valores de
tensión de polarización pueden asociarse a una disminución de la tasa de
crecimiento y de la dureza de las películas, mientras que muy bajos
valores de presión de la cámara combinados con una alta temperatura de
sustrato pueden relacionarse a un aumento de la tasa de crecimiento.
Temperaturas de sustrato del orden de 300ºC, con tiempos de deposición
de hasta 240 min, no provocan cambios en su microestructura.
Temperaturas mayores a 350ºC provocan degradación microestructural, aún
para tiempos de deposición de 45 min.