Estudio cinético de la oxidación de nitrobenceno y 4-nitrofenol mediada por fotólisis UV de soluciones acuosas de NO3- y NO2-

JUAN FELICE; JUAN TRISZCZ; LUCIANO CARLOS; FERNANDO S. GARCÍA EINSCHLAG

Tandil, Bs As, Argentina

Congreso; XV Congreso Argentino de Fisicoquímica; 2007

Las aguas naturales usualmente contienen aniones nitrato y nitrito que pueden absorber luz solar en la zona del UV cercano. Se ha establecido que esta absorción da lugar a reacciones fotoquímicas que producen radicales hidroxilo. Estos radicales son especies altamente reactivas que generalmente se adicionan a compuestos orgánicos insaturados o abstraen hidrógeno de compuestos saturados.El objetivo del presente trabajo ha sido estudiar la oxidación de los sustratos nitrobenceno (NBE) y 4-nitrofenol (PNP) mediada por radicales HO· generados por fotólisis UV de NO3- y NO2-. En particular se han estudiado los comportamientos cinéticos y los perfiles de distribución de productos en diferentes condiciones experimentales tales como pH, [NO3-], [NO2-], [Sustrato] y [O2]. Se ha observado que las velocidades de degradación de los sustratos orgánicos dependen notablemente de las concentraciones de NO3- y NO2-. La presencia de oxigeno disuelto afecta las distribuciones relativas de productos para los sustratos NBE y PNP. Asimismo, ensayos realizados con intensidad de irradiación constante muestran que las concentraciones de materia orgánica y oxígeno disuelto tienen una marcada influencia en las velocidades de consumo de NO2-.Si bien los procesos de fotólisis UV de aniones NO3- y NO2- en presencia de materia orgánica son fenómenos muy complejos que involucra gran cantidad de reacciones térmicas y fotoquímicas, los resultados obtenidos en nuestro estudio han podido interpretarse sobre la base de un mecanismo simplificado.