Scaling bajo ataque químico selectivo

G.P. SUÁREZ, D.A. MIRABELLA, Y C.M. ALDAO

Montevideo

Congreso; Segunda Reunión Conjunta Sociedad Uruguaya de Física - Asociación Física Argentina (SUF-AFA); 2011

El estudio de la morfología de superficies e interfaces y los procesos a nivel atómico involucrados en su conformación es un tema de interés básico y de relevancia tecnológica. La deposición a nivel atómico y las morfologías resultantes han sido objeto de estudios sistemáticos desde hace años. Sin embargo y a pesar de que tecnológicamente es igualmente importante, la extracción de material mediante el ataque químico y la consiguiente alteración de la morfología de la superficie han sido poco estudiados al presente. Centramos nuestra atención en el ataque químico húmedo de Silicio con hidróxido de potasio. En particular, nos interesamos en la morfología resultante en los escalones para una superficie cercana al plano (111) del silicio. En este trabajo modelamos la evolución de la morfología de los escalones mediante simulaciones de Monte Carlo. En especial, analizamos cómo las propiedades de scaling de la rugosidad de los escalones depende de un mecanismo de ataque químico selectivo que reproduce las observaciones experimentales.