Morfología de la superficie (100) de silicio bajo ataque químico húmedo

M.P. SUÁREZ, M. OPPEDISANO, Y C.M. ALDAO

Revista SAM

SAM

Año: 2013 p. 7 - 9

1668-4788

El silicio es el semiconductor más ampliamente difundido y utilizado industrialmente. Constituye el material sobre el que se basa la industria electrónica. Especialmente, la superficie (100), la utilizada en los circuitos integrados, ha sido la más estudiada. Gracias a nuevas técnicas de observación, se dispone hoy de información sobre los diversos procesos que tienen lugar durante la deposición a nivel atómico y el rol que estos desempeñan en la micro- y nano-tecnología. Se ha prestado mucha menor atención a los procesos a nivel atómico que tienen lugar durante el ataque químico y la remoción de material en general, aunque estos procesos son tecnológicamente de gran relevancia. El ataque químico es básico en la tecnología de microsistemas (MST). En particular, el ataque químico anisótropo húmedo es una de las técnicas más empleadas en la fabricación de sistemas micro- y nano-electro-mecánicos (MEMS y NEMS). Ver: http://www.materiales-sam.org.ar/sitio/revista/1_2013/n1_año%202013.html (El sistema no me permite cargar esta dirección)