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Tecnologías basadas en plasma de Argón han sido utilizadas ampliamente para la elaboración de materiales a elevadas temperaturas (T≥5000ºC). La velocidad de procesamiento, la capacidad de control de la atmósfera y la buena relación de costos son las ventajas más destacables. Las mayores variables de procesamiento consisten en: voltaje, gas utilizado, caudal del gas, velocidades de calentamiento y enfriamiento (106 ºC/s pueden ser posibles). La cinética de las reacciones se ve incrementada en varios ordenes de magnitud debido a las elevadas temperaturas [1]. El zircón (ZrSiO4) es una materia de gran importancia tecnológica y tiene un desarrollo y utilización continuado por más de 50 años. [2] Su uso se extiende a hornos de vidrio, canales, material de alimentadores, etc. Es bien sabido que los cerámicos de Zircón son materiales refractarios de interesantes propiedades a altas temperaturas, especialmente por que los cerámicos de Zircón puro no tienen ninguna transformación estructural importante por debajo de los 1675ºC donde se disocia en sílice y Zirconia cristalina. Aunque esta temperatura de descomposición disminuye con la presencia de impurezas o de otras fases cristalinas. Luego por encima de los 2000ºC ambas fases forman una solución miscible [2]. La reacción es reversible y los óxidos se recombinan para formar el silicato en el enfriamiento. Sin embargo si los productos son enfriados rápidamente (quenching) la recombinación es sorteada. A ese producto se lo llama Zircón disociado (ZD). Cerámicos de Zircón se han producido por prensado, prensado en caliente, colado en moldes de yeso, métodos de sol-gel, y más reciente mente por SPS. Sinterizados en un rango de temperaturas entre 1500ºC y 1650ºC obteniéndose densidades de más del 97%. Cerámicos de ZD se han producido por plasma desde hace varias décadas [2].

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