Diseño y caracterizacion estructural de interfaces de Cu(100)-AlF3-Cu y Cu(100)-AlF3-W

J. NAVARRO SANCHEZ; E. A. ALBANESI

Merlo (SL)

Congreso; 100° Reunion Nacional Asociacion Fisica Argentina; 2015

Asociacion Fisica Argentina

El trifluoruro de aluminio es un aislante i´onico con potenciales aplicaciones como catalizador en reacciones deintercambio hal´ogeno, el cual adopta una estructura cristalina rombo´edrica en su fase estable por debajo de los 730K y conocida como ()−AlF3. Por sus caracter´ısticas cristalinas, tambi´en es usado como interfaz transparente enaplicaciones fotovoltaicas, y como barrera aislante en contactos e interfases met´alicas. En este trabajo se presentanlos resultados de la caracterizaci´on estructural y electr´onica de diferentes interfaces que incluyen Cu(100), unamol´ecula de AlF3 y Cu/W, esto con el objetivo usar el m´etodo de superceldas para modelar una interface entredos m´etales que juegan el rol de electrodos o contactos y un aislante. El electrodo derecho se modela de dos formasdiferentes, la primera como una placa met´alica ubicada a cierta distancia de la mol´ecula aisladora, mientras que lasegunda es dando la forma al electrodo de una punta terminada en un ´atomo. Las puntas dise?nadas son crecidasen direcci´on (100) y (111). Estos c´alculos representan el primer paso para luego realizar c´alculos de transporte decarga para obtener las curvas I-V caracter´ısticas de las diferentes interfaces. Los c´alculos presentados se llevarona cabo dentro de la formulaci´on de la Teor´ıa de la funcional densidad (DFT) utilizando la aproximaci´on GGApara el potencial de intercambio y correlaci´on, con un esquema de pseudopotenciales conservadores de la normay pseudo orbitales at´omicos.