Caracterización de películas de ZnO puro y dopado mediante reflectometria y dispersión de rayos X en incidencia rasante (XR y GISAXS?)

C.D. BOJORGE; E.A. HEREDIA; J.R. CASANOVA; H.R. CÁNEPA; A.F. CRAIEVICH; G. KELLERMANN

Córdoba

Congreso; I Reunión Latinoamericana de Cristalografía-IX Reunión Anual de la Asociación Argentina de Cristalografía (AACr); 2013

Asociación Argentina de Cristalografía

El ZnO nanocristalino es un material de gran interés por sus múltiples aplicaciones (sensores de gases, de humedad, detectores de radiación UV, dispositivos optoelectrónicos, nanogeneradores, etc.). Una de las características importantes de las películas obtenidas por sol-gel es la porosidad, característica que las hace útiles para ciertas aplicaciones como materiales para catálisis, electrodos en celdas solares, estructuras huéspedes para sensado de componentes orgánicos o biocompatibles, etc. En el presente trabajo se estudiaron películas de ZnO, puro y dopado con aluminio e indio. Las películas fueron depositadas sobre sustratos de sílica en 2, 4, 6 y 8 capas y caracterizadas en el sincrotrón del LNLS de Campinas, Brasil, mediante técnicas de XR, la que permite determinar densidad, espesor y rugosidad de los filmes y GISAXS, que brinda información el tamaño y forma de los poros. El análisis de los resultados experimentales XR se realizó de tres maneras diferentes: a) mediante ajustes con el software Parratt 32, b) por medio de la ecuación modificada de Bragg y c) de manera directa a través de la determinación del ángulo crítico y de la distancia entre oscilaciones, discutiéndose luego la validez de los resultados obtenidos por los métodos citados. Los diagramas GISAXS fueron analizados mediante el software IsGISAXS, permitiendo determinar el tamaño y forma de los poros, así como también comprobar la posición del ángulo crítico mediante la utilización del pico de Yoneda.