Estudio periódico DFT de la deposicion de Al sobre grafeno

N. DOMANCICH; N. CASTELLANI; R. FERULLO

Montevideo

Congreso; XII Reunión de la SUF y 96 Reunión Nacional de la AFA; 2011

Asociación Física Argentina y Sociedad Uruguaya de Física

Recientemente se ha propuesto a las estructuras de tipo metal-grafeno como sistemas capaces de reconocer moléculas a escala nanoscópica, aprovechando las notables propiedades de conducción del grafeno. En este trabajo se estudia teóricamente la deposición de aluminio sobre grafeno como sistema nanoscópico 2D para su aplicación como detector de gases en dispositivos nanoelectrónicos. Se considera que la formación del depósito de aluminio principia con el anclaje de un átomo de aluminio en una vacancia de carbono del grafeno, seguido del crecimiento del depósito a través del ensamblado de nanoagregados de Al. Se considera el proceso de difusión del aluminio sobre el grafeno y el crecimiento de las partículas de Al. Esto se hace dentro del marco de la teoría DFT y utilizando el código VASP, donde las funciones de onda se expanden en ondas planas y la interacción con los electrones más internos se incluye mediante la introducción de los potenciales PAW.