ESTUDIO HRTEM DE PELÍCULAS DELGADAS DE AlN DEPOSITADAS MEDIANTE SPUTTERING POR MAGNETRÓN DC EN MODO REACTIVO: EFECTO DE LA PRESIÓN EN LA TEXTURA

GARCÍA MOLLEJA, J.; GOMEZ, B J; ABDALLAH, B; DJOUADI, M A ; FEUGEAS, J.N.; PIERRE-YVES JOUAN

Tandil

Congreso; 99 Reunión Nacional de Física de la Asociación Física Argentina; 2014

Asociación Física Argentina.

El nitruro de aluminio es un compuesto cerámico con multitud de aplicaciones tecnológicas en muchos campos [1], tales como la óptica, la electrónica y los dispositivos resonadores [2]. La eficiencia del AlN es altamente dependiente delas condiciones experimentales de deposición [3]. En este póster se analiza el efecto de la presión de trabajo en el desarrollo de tensiones residuales en su estructura. Para ello, se depositaron películas delgadas de AlN mediantesputtering por magnetrón DC en modo reactivo con presión de trabajo variable (3-6 mTorr) sobre Si (100). Estas muestras se caracterizaron mediante medición de curvatura de la muestra, XRD, HRTEM y SAED. Los resultados muestranque la tensión residual depende del espesor de la película: compresiva a bajos valores, de tracción a altos valores. Además, la tensión residual es dependiente de la presión de trabajo, luego a más presión menos tensión residual,inhibiendo el desarrollo de la textura en el plano (00·2), vital para las aplicaciones tecnológicas.