Dependencia de las propiedades estructurales con la temperatura del sustrato en películas de carbono amorfo depositadas por PVD

TORRES, S.; FRATTINI, G.; SILVA, L. I.; AGUIRRE, A.; REPETTO C. E.; GÓMEZ, B; DOBRY, A.

San Carlos de Bariloche

Congreso; 107 Reunión de La Asociación Física Argentina; 2022

Asociación Física Argentina

Realizamos un estudio sistemático de cómo la temperatura del sustrato influye enlas propiedades estructurales de las películas de carbono depositadas por medio dela técnica PVD (physical vapour deposition). Se adaptó un sistema de calentamientodentro de la cámara de deposición, donde se alcanzaron temperaturas hasta los 700◦C.La caracterización parte principalmente del análisis de los espectros Raman, dondese observa la evolución de los picos G y D que corresponde al material en su faseamorfa. Al aumentar la temperatura del sustrato, las zonas sp2 aumentan y se ve eldesplazamiento a la derecha del pico G y el aumento de la relación ID/IG. Un picoD + D′ aparece a 700◦C indicando que tenemos un grafeno altamente defectuosoy nos encontramos más cerca de una transición de carbono amorfo a una capa degrafeno. Además se estima la relación del Tauc gap de energía, encontrando valoresdel orden de los 2,29 eV y se realiza el estudio de FTIR por transmisión en algunasde las temperaturas intermedias determinando el tipo de enlace a bajas frecuencias1730 [ν(C=O)], 1550 [ν(C=C) o ν como (OCO)], 1460 [δ(CH)], 1420 [δ(CH) o νs(OCO)], 1260 y 1078 cm−1 [ν(C-OH)].