Determinación de la tasa de ablación empleando un láser sólido de Nd:YAG con pulsos de nano-segundos

M.NONAKA, M.AGÜERO, ALEJANDRO HNILO, L.FIDALGO, A.TOURON, D.KRYGIER, Y M.KOVALSKY

Tandil

Congreso; 99 Reunión de la AFA; 2014

AFA

El procesamiento de materiales con l´aser tiene numerosas aplicaciones en el campo de la ciencia y la industria. En el proceso de ablaci´on l´aser el material de la superficie de un sustrato es removido bajo la acci´on de un pulso l´aser. Para que este proceso sea eficiente primero se debe realizar una caracterizaci´on completa de las condiciones de ablaci´on del sustrato tales como el umbral de ablaci´on y la tasa de ablaci´on (ablation rate). La tasa de ablaci´on, que indica el m´aximo espesor removido por un ´unico pulso, depende de las propiedades del material y de las caracter´ısticas del l´aser (tama?no del haz, fluencia y longitud de onda, entre otros). El estudio de este par´ametro permite controlar la cantidad de material removido en el proceso, siendo de esencial inter´es en el micromaquinado l´aser. En este trabajo se presentan los resultados experimentales de la determinaci´on de la tasa de ablaci´on para un l´aser s´olido de Nd:YAG con pulsos de nanosegundos aplicado a obleas de silicio pulidas, material de inter´es en el ´area de la optoelectr´onica.