Activación de electrodos de aluminio en presencia de galio

D.O. FLAMINI; S.B. SAIDMAN; J.B. BESSONE

Termas de Río Hondo, Santiago del Estero

Congreso; XIV Congreso Argentino de Fisicoquímica y Química Inorgánica; 2005

Asociación Argentina de Investigación Fisicoquímica

Se estudió el comportamiento electroquímico de Al en presencia de Ga3+ y de Ga metálico adherido mecánicamente a la superficie de Al en soluciones de cloruro, acetato y en agua destilada. Se emplearon técnicas potenciodinámicas, medidas del potencial de corrosión y se analizó la superficie mediante SEM/EDAX. A partir de una concentración superficial crítica de Ga líquido la formación de una amalgama Ga-Al posibilita la activación a potenciales muy electronegativos (- 1,50 VSCE). El tipo de ataque es cuasi uniforme y desarrolla cavidades amplias. El contacto metálico Ga-Al origina una superficie muy activa aún en contacto con agua destilada. La presencia de partículas esféricas de Ga en los productos de corrosión confirma la presencia de Ga líquido durante la activación. El proceso es favorecido por la hidrólisis del ión Al3+, mientras que la difusión lateral e intergranular de Ga origina pérdidas de este metal. Estas pérdidas favorecen la saturación de la amalgama y su solidificación. La presencia de Ga sólido facilita la adsorción de cloruro a potenciales mas positivos (- 1,10 VSCE), originándose un ataque localizado. Ambos procesos de activación pueden operar en serie ó en paralelo, según sean la temperatura y la cantidad de Ga en la interfaz.