Photoacoustic characterization of UV-MALDI-MS matrices

MARIANA MESAROS,; I. TARZI, OLGA; HIROSHI NONAMI,; ERRA BALSELLS, ROSA; M. BILMES, GABRIEL

Rio de Janeiro, Brasil

Congreso; 13st International Conference on Photoacoustic and Photothermal Phenomena; 2004

JSMS

Una de las técnicas que  ha revolucionado la analítica de polímeros sintéticos y la biología de las macromoléculas es la denominada Matrix?Assisted Ultraviolet laser Desorption / Ionization Mass Spectrometry (UV-MALDI-MS). En esta técnica se produce la vaporización y ionización  de macromoléculas mediante  ablación fotosensibilizada, con un  láser pulsado de UV. La muestra  (analito) se encuentra en una matriz sólida (fotosensibilizador), que  absorbe la radiación láser e interactúa con el analito produciendo su vaporización y ionización.  Si bien los compuestos empleados como matrices son comerciales, sus propiedades fotofisicas no son totalmente conocidas y se carece de un modelo general para explicar el proceso de fotosensibilización. Por tal razón un primer paso es determinar las propiedades de estos compuestos en medios conocidos. En este trabajo se estudiaron  las propiedades fotofisicas de 4  fotosensitizadores (matrices) en soluciones de acetonitrilo, utilizando una técnica fotoacústica. Los compuestos estudiados son el 2,4,6-trihidroxiacetofenona (THA); el ácido 2,5-dihidroxibenzoico (GA) y dos b-carbolinas, el harmano (Ho) y el nor-harmano (Nho).   Las medidas fotoacústicas se realizaron utilizando un láser pulsado de Nd:YAG para la excitación y detección piezoeléctrica. Los resultados obtenidos se discuten en términos del comportamiento fotofísico general de estas moléculas y de su eficiencia de fotosensitización en experimentos de  UV-MALDI-MS.