Tratamiento de superficies por plasma en el INFIP: Arcos catódicos, descargas RF, implantación iónica

A. MÁRQUEZ

Mar del Plata

Taller; First Latin-American Workshop on Plasma Surface Engineering and Industrial Applications on Plasma Technology (AITP); 2011

Los arcos catódicos resultan muy atractivos en la producción de recubrimientos superficiales debido a su simplicidad comparada con otras tecnologías, a la alta tasa de crecimiento y a las propiedades de los films depositados. Al combinar la descarga arco con la polarización de la muestra utilizando una tensión pulsada de kilovolts se obtiene la aceleración de los iones del plasma hacia la superficie, logrando un proceso combinado de deposición con implantación iónica (PIII&D). Al variar la tensión y duración de los pulsos se puede modificar la interface, y la morfología y estructura de los films. Otros equipos de amplia aplicación son las descargas RF. En estas descargas puede implementarse la implantación de iones de origen gaseoso por inmersión en plasma (oxígeno, nitrógeno, etc.) ubicando la pieza polarizada en el seno del plasma generado. En el INFIP se han desarrollado varios equipos de descarga arco pulsada y continua, y un sistema para PIII&D. Estos equipos han sido empleados para el estudio de recubrimientos Ti, TiN, óxidos de titanio, Cu, CuO y Ni. También, en estos equipos se ha caracterizado el plasma producido mediante sondas electrostáticas, espectroscopia, y analizadores de carga. Recientemente se ha puesto en funcionamiento una descarga RF de 220 W con la cual se está investigando el crecimiento de nanoestructuras de carbono.