INFIQC   05475
INSTITUTO DE INVESTIGACIONES EN FISICO- QUIMICA DE CORDOBA
Unidad Ejecutora - UE
congresos y reuniones científicas
Título:
Electrodeposición de cobre sobre superficies de Si(111) químicamente modificadas
Autor/es:
MA. BERNARDA QUIROGA ARGAÑARAZ; G. RIVEROS PATRONI; G. I. LACCONI
Lugar:
Salta
Reunión:
Congreso; XV congreso argentino de Física y Química Inorgánica; 2009
Resumen:
ELECTRODEPOSICION DE Cu SOBRE SUPERFICIES DE Si(111) QUIMICAMENTE
MODIFICADAS
Ma. Bernarda Quiroga Argañaraz1, Gonzalo Riveros Patroni2 Gabriela I. Lacconi1
1INFIQC, Departamento de Fisicoquímica, Facultad Ciencias Químicas, UNC, Cdad.
Universitaria, 5000 Córdoba, Argentina.
2 Universidad de Valparaíso, Valparaíso, Chile.
e-mail: glacconi@mail.fcq.unc.edu.ar
El enlace covalente de monocapas orgánicas con las superficies de silicio
cristalino ha incrementado su interés en diferentes áreas de investigación debido a que
es un método potencial para la pasivación de la superficie y para la inserción de
funcionalidades químicas en las interfaces del semiconductor [1]. La unión Si-C ocurre
a través de un mecanismo de hidrosililación, el cual involucra la inserción de moléculas
insaturadas a los grupos de silicio hidrogenado. De esta manera, la interacción
covalente de las moléculas de la monocapa con la superficie del semiconductor,
produce una superficie modifcada altamente estable y con elevado nivel de pasivación.
Esta modificación de la superficie permite la posibilidad de fabricar patrones de
monocapas para el diseño y generación de nanoestructuras metálicas específicas,
útiles en la microelectrónica [2].
El objetivo del presente trabajo consiste en la obtención y caracterización de
superficies de n-Si(111) funcionalizadas con monocapas orgánicas (octadeceno),
empleadas como sustratos para la formación electroquímica de cristalitas de Cu.
La síntesis de las monocapas de octadeceno se realizaron mediante inmersión
de las obleas de silicio en el agente precursor empleando el calentamiento a 140 ºC o
la vía fotoquímica, con radiación UV(! = 254 nm), como métodos de la iniciación
radicalaria en la hidrosililación de la superficie hidrogenada. La caracterización
electroquímica de la superficies funcionalizadas se realizó mediante voltametría cíclica
y espectroscopía de impedancia electroquímica, en relación a la capacidad de
inhibición de la formación de óxido.
En el estudio de la electrodeposición de cobre sobre las superficies
funcionalizadas, se observó que es necesaria la presencia de defectos en las
monocapas para que ocurra la transferencia de carga a través de las mismas. Por ello,
luego de la formación de la monocapa, los sustratos fueron nuevamente hidrogenados
y de esta manera fue posible la formación de las cristalitas de cobre. El análisis de los
transitorios de corriente obtenidos a diferentes valores de potencial mediante el ajuste
con modelos teóricos de nucleación y crecimiento, muestra que las cristalitas formadas
siguen un crecimiento tri-dimensional controlado por difusión. En ambos experimentos
de deposición potenciodinámica y mediante pulsos de potencial, se evidencia la
inhibición de la transferencia de carga producida por la presencia de la monocapa
orgánica.
La nucleación y crecimiento de las cristalitas de cobre sobre las monocapas de
octadeceno enlazadas covalentemente a la superficie de Si(111)-H es explicada en
términos de la formación de canales conductores en los defectos de la película
orgánica.
[1] E. Balaur, T. Djenizian, R. Boukherroub, J.N. Chazalviel, F. Ozanam, P. Schmuki,
Electrochem. Comm. 6 (2004) 153.
[2] G. Oskam, J.G. Long, A. Natarajan, P.C. Searson, J. Phys. D: Appl. Phys. 31
(1998) 1927.