ESTUDIO DEL MECANISMO DE DEGRADACION DEL FUNGICIDA FLUSILASOL CON EL RADICAL SULFATO POR LASER FLASH FOTOLISIS Y CALCULOS TD-DFT.

DONALDO FABIO MERCADO CASTRO; PAULA CAREGNATO; MONICA CRISTINA GONZALEZ; LARISA L.B. BRACCO

Villa Carlos paz

Congreso; XX Congreso Argentino de Fisicoquimica y Quimica Inorganica; 2017

El flusilazol es un fungicida del grupo químico triazol. Es utilizado como fungicida sistémico en agricultura (se utiliza ampliamente en cultivos como el trigo, la cebada y los frutos del huerto) y contra enfermedades fúngicas sistémicas y tópicas en humanos y animales domésticos.Según la clasificación de la Organización Mundial de la Salud (OMS), el flusilazol se ubica en el Grupo 3, como ?poco peligroso? [1]Sin embargo, este derivado del triazol, es muy persistente en las aguas naturales y en el suelo donde ocurre acumulación. Además, tiene gran potencial para causar impacto en el proceso reproductivo en peces y demás organismos acuáticosLa ruta de degradación no está bien documentada y son escasos los datos sobre sus productos de degradación.En el presente trabajo se estudió la reactividad del flusilasol con el radical sulfato por láser flash fotólisis (LFF). También se determinaron intermediarios de reacción y se planteó un posible mecanismo de degradación del fungicida justificando por cálculos teóricos TD-DFT la naturaleza de los espectros observados en LFF.El radical sulfato es un poderoso oxidante muy utilizado en los procesos de oxidación avanzados (AOP) generado por activación del ion persulfato por luz UV (UV/S2O82-) generándose el SO4??, para tratamientos de agua contaminada con fungicidas y pesticidas [2] [3].Los resultados de los experimentos de LFF muestran la formación de dos intermediarios: uno con λmax. en 300nm y el otro presenta dos maximos λmax. en 380 y 640nm. Ambos se forman a partir de la reacción del radical sulfato con el flusilasol por ataque del SO4?? al nitrógeno del grupo triazol. Por cálculos TD-DFT se identificó a estos intermediarios como el radical centrado en el carbono con λmax. en 300nm (especie a) y al radical silanol Si?O? con dos máximos en 350 y 640nm (especie b).