Microlitografía óptica por absorción de dos fotones

NATALIA PHILIPP; NICOLÁS RAPAGNANI; MARÍA PAULA CARAL; IGNACIO M. GÓMEZ FLORENCIANO; MANUELA GABRIEL; LAURA ESTRADA

San Carlos de Bariloche

Congreso; XV Taller de Óptica y fotónica (TOPFOT); 2019

Comité de Óptica y Fotónica Argentino (CTO)

El desarrollo de nuevos métodos para la fabricación rápida y de bajo costo de microdispositivos ha cobrado gran interés en diversas áreas de la ciencia y la tecnología. Dentro de las técnicas utilizadas, la litografía por iluminación láser (o litografía óptica), ha surgido como una alternativa a los métodos de fabricación convencional que hacen uso de costosos y sofisticados equipos y que requieren, además, de espacios con niveles de limpieza controlados.En este trabajo mostramos la fabricación de microestructuras por absorción simultánea de dos fotones de un láser infrarrojo pulsado sobre una resina con una banda de absorción en el UV. Caracterizamos el proceso de fabricación utilizando Microscopía Confocal, Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) y Microscopía de Fuerza Atómica (AFM).Previo al curado óptico, la resina utilizada puede ser alterada químicamente para fabricar microestructuras con propiedades específicas. De este modo es posible obtener, por ejemplo, diseños fluorescentes, o porosos. Discutiremos la posible aplicación de la técnica en la litografía de resinas conductoras y su uso para la fabricación de circuitos en la microescala.