Síntesis y caracterización de películas y microestucturas mesoporosas de SiO2 con nanopartículas de Ag obtenidas mediante Deep X Ray Lithography

MEDONE ACOSTA D. E.; STEINBERG, PAULA Y.; ANGELOME, P.C.; B. MARMIROLI; FUERTES M. C.; L. P. GRANJA

Buenos Aires

Congreso; 103a Reunión de la Asociación Física Argentina; 2018

Asociación Física Argentina

La técnica de Deep X-Ray Lithography es una propuesta novedosa para la fabricación de films y microestructuras de óxidos mesoporosos.[1] Una vez fabricado el film mediante el método de sol-gel y autoensamblado por evaporación y depositado por spin-coating, se irradia con rayos X de alta energía (2.5 keV - 12 keV) utilizando una máscara de oro que posee diferentes patterns. Posteriormente, mediante un proceso de revelado, se extrae el film que no fue consolidado por los rayos X. De esta forma se pueden obtener estructuras tridimensionales de muy alta resolución, con potenciales aplicaciones a microdispositivos.[2] En este trabajo se presenta la caracterización estructural y de las propiedades de transporte de eléctrico de films y microestructuras de SiO2 con diferente concentración de nanopartículas de Ag y estructura porosa. En particular se utilizó un microscopio de fuerza atómica con punta conductora para estudiar las características morfológicas y eléctricas locales de estos sistemas.[1] P. Innocenzi, L. Malfatti, B. Marmiroli, P. Falcaro, J Sol-Gel Sci. Technol. 70, 236-244 (2014).[2] P. Innocenzi, L. Malfatti, P. Falcaro, Soft Matter 8, 3722 (2012).