Estudio de la oxidación superficial de cobre por excitación rasante de rayos x

H. J. SÁNCHEZ; C. A. PÉREZ

Campinas Brasil

Congreso; RAU 12; 2002

Laboratorio Nacional de Luz Sincrotrón

En este trabajo se reportan resultados preliminares de mediciones de oxidación superficial de cobre mediante excitación rasante de rayos x y detección de emisión fluorescente. Se analizaron tres muestras consistentes en wafers de silicio con capas superficiales de cobre. Los depósitos de cobre se realizaron mediante evaporación controlada obteniéndose espesores de 190 A, 400 A y 800 A en cada wafer. Luego de realizadas las muestras, las mísmas se conservaron en campanas de vacío hasta el comienzo de las mediciones a fin preservar las mismas de la oxidación por contacto con la atmósfera. Para cada muestra se tomaron mediciones con variaciones angulares en la región del ángulo crítico a distintos tiempos luego de comenzado el contacto con la atmósfera y finalmente luego de varios minutos de calentamiento en horno. Las mediciones se llevaron a cabo en la estación de Reflexión Total de la línea de FRX del LNLS. Las observaciones preliminares de los datos obtenidos muestran pequeñas variaciones en los espectros medidos para cada muestra. Las mayores diferencias se observan comparando los barridos angulares iníciales y los posteriores al calentamiento. Se esperan obtener resultados cuantitativos luego de analizar los datos utilizando la teoría de propagación ondas electromagnéticas en medios estratificados.