“Nanostructured ZnO Layer Fabrication By Pulsed Electrodeposition For Morphology Control”

J.OROZCO-MESSANA; M.D.REYES TOLOSA; L. C. DAMONTE; M.A.HERNÁNDEZ-FENOLLOSA

Workshop; t the Frontiers of Condensed Matter V, New Trends in Structural, Electronic and Magnetic Properties of Matter; 2010

La obtención de capas delgadas nanoestructuradas en ZnO es un proceso crítico para múltiples aplicaciones de este material semiconductor. Las propiedades finales de la capa dependen fundamentalmente de la morfología de la nanoestructura sintetizada. Se plantea la obtención de capas nanoestructuradas, con control de morfología, por electrodeposición pulsada, sobre sustrato de Níquel dispuesto por deposición libre de electrodos (electroless), proceso atractivo por minimizar los costes de metalización de sustratos y garantizar buenas propiedades frente a corrosión. La optimización del proceso se realiza partiendo de una caracterización mediante SEM de la morfología tras un análisis de la nucleación en función de las características de los pulsos, mediante AFM. Los resultados se caracterizan eléctricamente para evaluar su aptitud en las aplicaciones anteriores. También se evalua la afinidad de las capas metálicas de Ni para el proceso.