Nueva aproximacion teorica para deposicion superficial en superficies modificadas

PENA AUSAR JOAQUIN; PINTO O. A

Santiago del Estero, Argentina

Jornada; Jornada de Estudiantes y jóvenes investigadores; 2022

En el presente trabajo se presenta un nuevo enfoque teórico para describir mediante expresiones matemáticas simples el proceso de deposición en superficies planas y superficies de nanopartículas, modificadas con impurezas. En el proceso de deposición, una especie electroactiva, denominada adsorbato, se une(adsorbe) reversiblemente a los sitios disponibles de una superficie modificada con impurezas transfiriendo carga eléctrica a la misma. La aproximación teórica presentada se basa en la discretización de los niveles de energía asociados a los entornos de las impurezas depositadas. Esta se basa en una expresión general, donde se utilizan isotermas tipo Langmuir y una distribución binomial, para cada entorno asociado. Diferentes escenarios energéticos, y grados de impurezas son analizados tanto en superficies planas como en nanopartículas, a través de isotermas de adsorción y de la compresibilidad de la monocapa, esta última asociada a las corrientes voltamétricas vinculas a procesos electroquímicos. La fortalezas y limitaciones de la teoría se obtendrán de la comparación con simulaciones de Monte Carlo, que emula el proceso de deposición. La diferencia entre ambos métodos fue cuantizada por el cálculo de error integral, el cual generó resultados aceptables.