Characterization of SiO2+TiO2 amipropyl Mesoporous films by Synchrotron Light techniques: XRR, SAXS-2D and XANES

CALVO A.; ANDRINI L.; SOLER-ILLIA G.J.A.A.,; REQUEJO F. G.

Campinas

Encuentro; • 21th National Laboratory of Synchrotron Light Users Annual Meeting (RAU/LNLS).; 2011

LNLS

Los ¶oxidos mesoporosos tienen m¶ultiples aplicaciones, y por ello la relavancia de lainvestigaci¶on b¶asica en estos materiales. En nuestro grupo estudiamos este tipo demateriales, correlacionando las propiedades electr¶onicas con las propiedades ¯sico-qu¶³micas que presentan.En este trabajo, continuando una l¶³nea de investigaci¶on iniciada hace tresa~nos(1), se muestran los resultados obtenidos del estudio de ¶oxidos mixtos meso-porosos de Si-Ti soportados sobre Si, en diferentes concentraciones relativas, ala vez que se mantiene constante (20 por ciento) la cantidad de APTES (3-Aminopropyltriethoxysilane) presente en las paredes de los poros.Mediante Si K XANES se obtuvo que la densidad de estados desocupados Si3pvar¶³a fuertemente de acuerdo a la concentraci¶on relativa Si/Ti. A menor concen-traci¶on relativa, la densidad de estados es menor. Por otro lado, no se obtuvierongrandes variaciones entre la densidad de estados desocupados Si3p para el ¶oxidoSiO2 sin APTES y con APTES, lo que induce a idear un mecanismo de transfer-encia de carga compartido entre el Si y el Ti.P.C. Angelom¶e, L. Andrini, M.C. Fuertes, F.G. Requejo and G.J.A.A. Soler-Illia, Comptes Rendus Chimie, Vol. 13 (1-2), January-February 2010, 256-269.