INVESTIGADORES
SCENNA Nicolas Jose
congresos y reuniones científicas
Título:
Optimización Simultánea delDiseñoConceptual de Procesos y Layout de Planta Considerando el Riesgo Tecnológico
Autor/es:
ORELLANO, SANTIAGO; N. J. SCENNA; N. H. RODRIGUEZ
Lugar:
Ciudad Autonoma de Buenos Aires
Reunión:
Jornada; 5°Jornada de Intercambio y Difusión de los Resultados de Investigaciones de los Doctorandos en Ingeniería; 2020
Institución organizadora:
Universidad Tecnologica Nacional
Resumen:
En este trabajo se presentan brevementelos avances y resultados desarrolladosen el marco de la tesis doctoral titulada Metodología para la Optimización de Layout y Síntesis de Procesos Considerando el Riesgo Tecnológico. A través de la mismase pretende desarrollar un algoritmo eficiente que permita la obtenciónde la distribución óptima de las unidades de proceso y de los departamentos presentes en el complejo industrial bajo la consideración de la filosofía de diseño inherentemente seguro, incluyendo las principales restricciones de diseño estructural. Para la implementaciónde tal algoritmo, se han desarrolladomodelosde optimización que permiten vincularla toma de decisiones en la etapa del diseño conceptualy deldiseño del layout a través de la contemplación de las aristas comunes entreambas etapas, considerando tanto la vulnerabilidad delinterior de la plantacomo la del entorno(viviendas, escuelas, hospitales, etc.).Esta vinculación se llevó a cabo medianteel desarrollo de modelos reducidos para la evaluación del impacto ante distintos eventosaccidentales.
