PERSONAL DE APOYO
QUIROGA Alejandra Gisela Ramona
congresos y reuniones científicas
Título:
Estudio de la influencia del Tiron en la deposición electroforética de Bioglass® sobre acero inoxidable para aplicaciones en biomedicina.
Autor/es:
GISELA QUIROGA; ELIAS GONZALEZ; SILVIA CLAVIJO; MARIA J. SANTILLAN
Lugar:
Santa Fe
Reunión:
Congreso; CONGRESO INTERNACIONAL DE METALURGIA Y MATERIALES 2014; 2014
Institución organizadora:
SAM-CONAMET
Resumen:
Se realizaron recubrimientos de Bioglass® (BG) sobre sustratos de acero inoxidable empleando la técnica de deposición electroforética. Se trabajó con diferentes voltajes analizando su influencia en la tasa de deposición y aspecto del recubrimiento. La suspensión de BG que se utilizó para el proceso contiene Tiron (estabilizante y agente generador de carga). De acuerdo a previos estudios se demostró que estabiliza las suspensiones de BG por fenómenos electroestáticos. Se empleó una suspensión acuosa conteniendo 10%wt de BG, manteniendo constante la relación BG/Tiron en pH alcalino de 10. Las condiciones de trabajo: tiempo de deposición y distancia entre electrodos, se mantuvieron constantes a 8 min. y 2 cm, respectivamente. El rango de voltaje utilizado fue entre 1,5-6,5 V. La deposición de BG en todos los casos fue anódica. Se identificó una dependencia estrecha entre el voltaje aplicado y la tasa de deposición de la EPD. La mayor tasa de deposición se obtuvo trabajando con voltaje de 6,5 V, con un aspecto superficial del recubrimiento poroso. La presencia de poros en el recubrimiento da indicios de la formación de burbujas de gas durante el proceso. Debido a esta observación, se trabajó a voltajes inferiores a 6,5 V. Bajo todas las condiciones de voltaje se obtuvieron recubrimientos, la presencia de poros en el recubrimiento aumentó con el aumento del voltaje aplicado. En este trabajo experimental se observó que al aplicar un voltaje superior a 4 V, empiezan a generarse poros en el recubrimiento, pero en contrapartida aumenta apreciablemente la tasa de deposición. Esto lleva a establecer una situación de compromiso entre la tasa de deposición y el aspecto del recubrimiento. Teniendo en cuenta esta situación, se seleccionó un voltaje de trabajo óptimo para el proceso de EPD, siendo el mismo de 4 V. Este voltaje seleccionado se empleó para evaluar la tasa de deposición obtenida trabajando con distintos tiempos de deposición.
