EFECTO DEL TIRON EN LA DEPOSICION ELECTROFORETICA DE BIOGLASS® SOBRE ACERO INOXIDABLE

GISELA QUIROGA; SILVIA CLAVIJO; MARIA J. SANTILLAN

San Rafael. Mendoza

Congreso; Congreso Latinamericano de Ingenieria y Ciencias Aplicadas; 2015

Facultad de Ciencias Aplicadas a la Industria. UNCuyo

Empleando la técnica de deposición electroforética se realizaron recubrimientos de Bioglass® (BG) sobre sustratos de acero inoxidable. La suspensión de BG que se utilizó para el proceso contiene Tiron (estabilizante y agente generador de carga) que de acuerdo a previos estudios demostró que estabiliza las suspensiones de BG por fenómenos electroestáticos. Se empleó una suspensión acuosa conteniendo 10%wt de BG, manteniendo constante la relación BG/Tiron en pH alcalino de 10. Las condiciones de trabajo: tiempo de deposición y distancia entre electrodos, se mantuvieron constantes a 8 min. y 2 cm, respectivamente. Se trabajó con diferentes voltajes analizando su influencia en la tasa de deposición y aspecto del recubrimiento. El rango de voltaje utilizado fue entre 1,5-6,5 V. La deposición de BG en todos los casos fue anódica. Se identificó una dependencia estrecha entre el voltaje aplicado y la tasa de deposición de la EPD. La mayor tasa de deposición se obtuvo trabajando con voltaje de 6,5 V, con un aspecto superficial del recubrimiento poroso. La presencia de poros en el recubrimiento da indicios de la formación de burbujas de gas durante el proceso. Debido a esta observación, se trabajó a voltajes inferiores a 6,5 V. Bajo todas las condiciones de voltaje se obtuvieron recubrimientos, la presencia de poros en el recubrimiento aumentó con el aumento del voltaje aplicado. Se estableció una situación de compromiso entre la tasa de deposición y el aspecto del recubrimiento. Teniendo en cuenta esta situación, se seleccionó un voltaje de trabajo óptimo para el proceso de EPD. Este voltaje seleccionado se empleó para evaluar la tasa de deposición obtenida trabajando con distintos tiempos de deposición.