Comparación de diferentes procesos de fabricación simples para celdas solares de silicio de alta eficiencia

M.J.L. TAMASI; J.C. PLÁ; C.G. BOLZI; M.G. MARTÍNEZ BOGADO; M.P. BARRERA; J.C. DURÁN

La Plata, Buenos Aires, Argentina

Congreso; 83ª Reunión de la Asociación Física Argentina; 1998

Durante los últimos años se propusieron diversos procesos de fabricación simples para celdas solares de silicio cristalino de alta eficiencia. Todos ellos tienden a minimizar el número de pasos en horno a alta temperatura y a reducir los requerimientos de precisión en los procesos de fotolitografía. En el presente trabajo se comparan algunos procesos descriptos en la bibliografía y se proponen variantes originales. Los procesos de fabricación considerados utilizan una fuente líquida de POCl3 para la difusión de fósforo y Aal depositado por evaporación, para obtener estructuras n+pp+. Se evalúa la influencia de la concentración de POCl3 durante la predeposición sobre la repetibilidad y homogeneidad de la resistencia de capa de las obleas. Se discuten las ventajas y desventajas del crecimiento de una capa antirreflectante simple de SiO2 durante el proceso de difusión. Asimismo, se estudian técnicas que produzcan dispositivos con una capa delgada de SiO2 que actúe como pasivante pero que no interfiera con el recubrimiento antirreflectante. Se fabricaron celdas solares sobre obleas Czochralski tipo-p utilizando los procesos analizados previamente. Se presentan y discuten las propiedades eléctricas y electrónicas.