Dependencia de las propiedades estructurales con la temperatura del sustrato en películas de carbono amorfo depositadas por PVD

TORRES, SINDRY; FRATTINI, GIULIANO; SILVA, LEONEL I; AGUIRRE, ALEJO; REPETTO, CARLOS E; GÓMEZ, BERNARDO; DOBRY, ARIEL

Bariloche

Congreso; 107º Reunión de la Asociación Física Argentina; 2022

Asociación Física Argentina

Realizamos un estudio sistemático de cómo la temperatura del sustrato influye en las propiedades estructurales de las pelı́culas de carbono depositadas por medio de la técnica PVD (physical vapour deposition). Se adaptó un sistema de calentamiento dentro de la cámara de deposición, donde se alcanzaron temperaturas hasta los 700◦ C. La caracterización parte principalmente del análisis de los espectros Raman, donde se observa la evolución de los picos G y D que corresponde al material en su fase amorfa. Al aumentar la temperatura del sustrato, las zonas sp2 aumentan y se ve el desplazamiento a la derecha del pico G y el aumento de la relación ID /IG . Un pico D +D0 aparece a 700◦ C indicando que tenemos un grafeno altamente defectuoso y nos encontramos más cerca de una transición de carbono amorfo a una capa de grafeno. Además se estima la relación del Tauc gap de energı́a, encontrando valores en el rango de 0,45-0,65 eV y se realiza el estudio de FTIR por transmisión en algunas de las temperaturas intermedias determinando el tipo de enlace a bajas frecuencias 1730 [ν(C=O)], 1550 [ν(C=C) o ν como (OCO)], 1460 [δ(CH)], 1420 [δ(CH) o νs (OCO)], 1260 y 1078 cm−1 [ν(C-OH)].