Modelado y simulación de la vaporización de TbCl3 en un reactor vertical

M.O. BARBAGLIA; M.R. ESQUIVEL

Ciudad de La Plata - Pcia de Buenos Aires

Congreso; Pub. de los Anales AFA 2005 (90 ava Reunión Anual AFA); 2005

Asociación Física Argentina - Filial La Plata

En este trabajo se calculan los coeficientes de difusión binarios de TbCl3 en Ar y N2 y se deduce el coeficiente de transferencia de masa para un sistema crisol-reactor vertical en el rango de temperaturas entre 600 y 950ºC, para velocidades lineales de entrada de gas  de 4,40.10-4 m.s-1. Con los datos hallados, se modela y se simula la vaporización de TbCl3 utilizando grado de vaporización (aTbCl3) y temperatura como parámetros. In this work, the binary diffusion coefficient of TbCl3 in both Ar and N2 is calculated in the  600 to 950 ºC temperature range and the corresponding mass transfer coefficient is deduced for a vertical reactor containing a hanging crucible. The calculation is performed for gas linear velocity inlet of 4,40.10-4 m.s-1 . The data found are used to model and simulate the vaporization kinetics of TbCl3. Vaporization degree (aTbCl3)  and temperature are used as operation parameters.