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Con el objetivo de aumentar el espesor de películas de óxido superficial sobre Ti y Zr, los materiales puros en forma de chapas fueron anodizados a potencial constante entre 3 y 30 V vs. contraelectrodo en solución H3PO4 1 mol/L. Las muestras anodizadas fueron caracterizadas con diferentes técnicas superficiales. Se utilizó la técnica de espectroscopía de impedancia electroquímica (EIS) para determinar la estructura de las películas a través de modelos circuitales que se ajustan a los resultados experimentales. Utilizando el modelo de Brug se estimaron los espesores de las películas anódicas sobre ambos metales. Las muestras anodizadas fueron caracterizadas con diferentes técnicas superficiales. Se utilizó la técnica de espectroscopía de impedancia electroquímica (EIS) para determinar la estructura de las películas a través de modelos circuitales que se ajustan a los resultados experimentales. Utilizando el modelo de Brug se estimaron los espesores de las películas anódicas sobre ambos metales. Las muestras anodizadas fueron caracterizadas con diferentes técnicas superficiales. Se utilizó la técnica de espectroscopía de impedancia electroquímica (EIS) para determinar la estructura de las películas a través de modelos circuitales que se ajustan a los resultados experimentales. Utilizando el modelo de Brug se estimaron los espesores de las películas anódicas sobre ambos metales. 3PO4 1 mol/L. Las muestras anodizadas fueron caracterizadas con diferentes técnicas superficiales. Se utilizó la técnica de espectroscopía de impedancia electroquímica (EIS) para determinar la estructura de las películas a través de modelos circuitales que se ajustan a los resultados experimentales. Utilizando el modelo de Brug se estimaron los espesores de las películas anódicas sobre ambos metales.