ESTUDIO DE PELÍCULAS DELGADAS DE AlN SOBRE Si MEDIANTE SPUTTERING REACTIVO CON MAGNETRÓN

GARCÍA MOLLEJA J.; BÜRGI J.M.; FEUGEAS J.; CRAIEVICH A.F.; DJOUADI M.A.; JOUAN P.-Y.

Malargüe (Mendoza)

Congreso; XCV Reunión Nacional de la Asociación Física Argentina; 2010

Asociación de Física Argentina

La ciencia actual está prestando atención a materiales de magnitud nanométrica, debido a nuevas propiedades que no existen en tamaños mayores. Esto puede ser debido a efectos de confinamiento cuántico, al crecimiento epitaxial de pocas monocapas o a efectos de correlación y periodicidad. Existe una aplicación inmediata industrial en el campo de la fabricación de resonadores, diodos LED, piezoeléctricos, recubrimientos de alta dureza y dispositivos con memoria de forma, junto a otros campos. Debido a la facilidad y economía de fabricar películas delgadas mediante plasma, la industria e ingeniería están apostando a esta técnica, en especial mediante el uso de un magnetrón en la variante de sputtering reactivo. La ausencia de contaminantes es otra de las ventajas a considerar para proteger el medio ambiente. Es importante dentro de este campo la naturaleza del compuesto a usar. El nitruro de aluminio (AlN) es un cerámico de grandes prestaciones, ya que posee alta dureza, una muy alta velocidad del sonido, un buen coeficiente de acoplamiento electromecánico, estabilidad térmica, efectos de piezoelectricidad y el mayor salto de banda electrónico en los semiconductores III-V. Además, en ciertas condiciones y un espesor nanométrico posee una fase metaestable cúbica de altísima dureza. Nuestro experimento se acerca a comprender la formación y la estructura interna de capas de AlN depositadas sobre silicio bajo dos atmósferas diferentes de argón y nitrógeno. Para cada mezcla de gases depositamos a presiones diferentes para conocer su influencia. Recurriendo al uso de AFM y GIXRD determinamos la topografía y el crecimiento preferencial y al usar luz sincrotrón haremos un análisis de deformaciones según la profundidad.