Caracterización por espectroscopía de impedancia de films delgados de carbono amorfo hidrogenado por PVD con la variación de la humedad y temperatura.

C. REPETTO; B. GÓMEZ; A. DOBRY; J. EPELOA

La Plata

Congreso; 102 Reunión Nacional de la Asociación Físca Argentina; 2017

Mediante la t´ecnica de ?Physical Vapor Deposition? (PVD) se hicieron crecer films de carbono. A partir de espectroscop´ıa Raman se determin´o que la composici´on de los films se correspond´ıa con carbono amorfohidrogenado. Estos films se depositaron sobre diferentes sustratos: conductores, semi-conductores y aislantes. Mediante una m´scara adecuada se generaron los electrodos para su posterior excitaci´on el´ectrica. Seestudi´o tanto la respuesta del material en funci´on de la humedad y temperatura, como tambi´en su respuesta en frecuencia. Se propuso un modelo de circuito equivalente y se ajustaron los datos experimentalesobtenidos de esas mediciones realizadas, con el objetivo de encontrar los valores de los par´ametros concentrados del circuito propuesto.