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Mediante la técnica de "Physical Vapor Deposition" (PVD) se hicieron crecer films de carbono. A partir de espectroscopía Raman se determinó que la composición de los films se correspondía con carbono amorfo hidrogenado. Estos films se depositaron sobre diferentes sustratos: conductores, semi-conductores y aislantes. Mediante una máscara adecuada se generaron los electrodos para su posterior excitación eléctrica. Se estudió tanto la respuesta del material en función de la humedad y temperatura, como también su respuesta en frecuencia. Se propuso un modelo de circuito equivalente y se ajustaron los datos experimentales obtenidos de esas mediciones realizadas, con el objetivo de encontrar los valores de los parámetros concentrados del circuito propuesto.