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La rápida miniaturización de sistemas micro-electromecánicos, microsensores y dispositivos ópticos está dando lugar a circuitos integrados con características tridimensionales e incluso con piezas móviles en la escala del micrómetro y del nanómetro. De este modo, se han planteado nuevos retos en el desarrollo de técnicas no destructivas y no invasivas para analizar estos sistemas, no sólo en la etapa de desarrollo sino también durante la etapa de producción. Las técnicas ópticas de campo completo proveen una alternativa a los métodos convencionales de inspección, dado que son rápidos, robustos y no destructivos. Una de estas técnicas ópticas es la Interferometría de Speckle Digital (DSPI) la cual posee una elevada sensibilidad y capacidad de medir campos de desplazamientos mecánicos generados por las superficies de los objetos estudiados. En este trabajo se presenta un método novedoso para evaluar la distribución de fase para ser utilizado en DSPI. La técnica propuesta se basa en el cálculo de la correlación entre los dos interferogramas de speckle generados por ambos estados de deformación del objeto. Este método no requiere la introducción de un dispositivo para generar los corrimientos de fase o portadoras de franjas en el sistema óptico para medir las distribuciones de fase generadas por las deformaciones del objeto sin ninguna ambigüedad del signo. Es importante destacar que este método se debe aplicar a la medición de desplazamientos nanométricos, en los cuales las franjas de correlación muestran menos de una franja completa, los cuales pueden aparecer frecuentemente cuando se estudian microsistemas. En estos casos, el cambio de fase generado por la deformación es menor a π, de manera que el mapa de fase envuelto no presenta los saltos de fase 2π. Por lo tanto, no resulta necesario aplicar un algoritmo de desenvoltura de fase espacial para obtener la distribución de fase continua.