Estudio teórico de la adsorsión de AlF3 sobre Cu(100)

VALERIA MARTIN; JULIO FERRÓN,; LILIANA GOMEZ; JORGE GARCES

Rosario

Encuentro; Quinto Encuentro de Física y Química de Superficies; 2011

RESUMENExiste en la actualidad un creciente interés en la aplicación de capas ultra-delgadas de aisladores como soporte de nano-estructuras. Así,el fluorurodealuminio (AlF3) ha despertado interés por sus potenciales aplicaciones para generar patrones en nano-litografía de haces de electrones. Esto se debe a que bajo irradiación electrónica, el fluoruro de aluminio presenta desorción del fluor con la consecuente formación de aluminio metálico.El objetivo de este trabajo es estudiar la interacción de una molécula de AlF3 con la superficie de Cu(100) con el propósito de determinar la interacción entre los estados electrónicos de la molécula y de la superficie. Para tal fin, se determinaron la DOS, las DOS parciales y las densidad de carga con el código abinitio QuantumEspresso. Se compara la ubicación final de la molécula de AlF3 con resultadosobtenidos con el método de MonteCarlo utilizando distintos potenciales fenomenolgicos. Posteriormente, se estudiarán las etapas iniciales de crecimiento del sistema AlF3/Cu(100), através del modelado con MC y dinámica molecular abinitio.