EFECTO DE LA VARIACIÓN DEL FLUJO DE NITRÓGENO SOBRE LAS PROPIEDADES FÍSICAS DE PELÍCULAS DELGADAS DE NITRURO DE VANADIO CRECIDAS POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA R.F.

URRUTIA PALACIOS JHON ALEXANDER; RINCÓN CARLOS; BOLAÑOS GILBERTO; DE LA CRUZ WENCEL

Ibague

Congreso; XXII Congreso Nacional de Física; 2007

Universidad del Tolima

Se crecieron películas delgadas de nitruro de vanadio usando un sistema de pulverización catódica reactiva R.F. asistida con campo magnético, las películas fueron depositadas sobre sustratos de silicio (100) y de vidrio. El blanco utilizado fue un disco de vanadio de 2 pulgadas de diámetro con una pureza de 99.99%. La temperatura del sustrato fue de 723 K durante el proceso de depósito. La potencia del plasma fue de 55 Watts para todos los depósitos y el flujo de nitrógeno fue variado en el intervalo de 0 a 5 sccm. Las concentraciones atómicas de las muestras fueron obtenidas por espectroscopia de electrones Auger (AES). Los resultados de AES mostraron que las muestras están constituidas por vanadio, nitrógeno e impurezas de oxígeno. Además, que un incremento en la presión parcial de nitrógeno en el sistema produce un incremento en la concentración de nitrógeno de las películas. La espectroscopia de electrones fotoemitidos (XPS) revela que el vanadio se encuentra en dos ambientes químicos diferentes (óxido de vanadio y nitruro de vanadio). Medidas de resistencia en función de la temperatura indican que las películas presentan un comportamiento metálico. Medidas de transmitancia de las películas en el rango ultravioleta, visible e infrarrojo fueron correlacionadas con la concentración de nitrógeno en la película.