Dispositivo experimental para la deposición electroquímica de Fosfuro de Indio.

GUEIJMAN, S. ;; SCHVEZOV, C.; LAMAGNA, A.

Resistencia-Chaco – Argentina

Congreso; Reunión de Comunicaciones Científicas y Tecnológicas 1996; 1996

Universidad Nacional del Nordeste

Diversos autores muestran que es factible la deposición electroquímica de compuestos semiconductores del grupo III-V a partir de soluciones acuosas y temperatura ambiente par su utilización en celdas solares, pantallas para display planas y optoelectrónica. Se reportan películas delgadas de fosfuro de indio preparadas por esta técnica que muestran una pobre calidad superficial. En el presente trabajo se muestra un dispositio experimental para el estudio de la deposición electroquímica de fosfuro de indio a partir de soluciones acuosas de Hexafluor-fosfuro de Amonio y Cloruro de Indio. Se describen las características del equipo construido y la calibración de los sensores e instrumentos de mdiión de lasprincipales variables que afectan la deposición del material compuesto. Se presentan la forma de medición y egistro de variables tales como temperatura y pH durante las deposiciones para su utilización en la caracterización y estudio del proceso de deposición electroquímica del compuesto semiconductor. Las dificultades encontradas durante la puesta a punto del equipo, y las soluciones adoptadas par el monitoreo y la obtención del compuesto.