INVESTIGADORES
ELSNER Cecilia Ines
congresos y reuniones científicas
Título:
ESTUDIO DE LA ESTRUCTURA DE PELÍCULAS DE SILANOS ORGANOFUNCIONALES MEDIANTE MEDIDAS ELIPSOMÉTRICAS A DIFERENTES LONGITUDES DE ONDA Y ÁNGULOS DE INCIDENCIA
Autor/es:
P.R. SERÉ; C. DEYA; C.I. ELSNER; A. MALTZ; J.O. ZERBINO; A.R. DI SARLI
Lugar:
Villa Carlos Paz
Reunión:
Congreso; NANOCÓRDOBA 2012; 2012
Institución organizadora:
Universidad de Córdoba
Resumen:
El precursor 3-mercaptopropyl trimethoxysilane (MPTMS) es utilizado para la producción de películas aplicadas sobre recubrimientos, sensores, microelectrónica y dispositivos biomédicos. Posee dos grupos terminales reactivos: el metóxi (-CH3), que se hidroliza y condensa, formando uniones covalentes con la red de siloxanos y/ó con óxidos en superficies metalicas de hierro,zinc o vidrios, y el tiol (-SH) que forma fuertes uniones covalentes con metales como Ag, Au, Pt y Cu, o por oxidación a ácido sulfónico puede quimiadsorber óxidos como, por ej. ZrO2.En el análisis se emplean diversas técnicas electroquímicas y ópticas, en particular, elipsometría. Datos de espesor de película se encuentran reportados en la región del espectro visible considerando una películas no adsorbente (k= 0) y valores de índice de refracción (n) entre 1,42 y 1,52. Excepto en la región entre 300 y 360 nm donde aumenta la absorción debido a la oclusión de restos de solventes las películas muestran alta transmitancia. Sin embargo, la presencia de poros incrementa la dispersión de luz con valores de k ≠ 0. Luego del tratamiento térmico, generalmente se obseva un aumento de la compacticidad con la temperatura. El análisis global de datos a distintos espesores permite mejorar la univocidad del ajuste de los valores de espesor, índice derefracción y coeficiente de absorción, n, k, y d. Medidas elipsométricas realizadas en el rango del espectro visible, entre 400 y 700 nm y para distintos ángulos de incidencia permiten mejorar aun mas el ajuste y disminuir el error en n, k, y d.. Se observan valores de la primera capa depositada d= 37 nm , n= 1.2, k= 0.03 y para un segundo depósito una película final d= 160 nm, n= 1.4, k= 0.035 mostrando que luego del segundo tratamiento la película aumenta su compacticidad a la vez de aumentar considerablemente su espesor.