Efecto del grafito precursor sobre el grado de oxidación y microestructura del óxido de grafeno.

FLORENCIA M. ONAGA MEDINA; MARÍA E. PAROLO; MARCELO J. AVENA

Congreso; Cuarto Taller Latinoamericano de materiales de carbono (TLMC4); 2021

El Óxido de Grafeno (GO) es una lámina de grafeno funcionalizada con diferentes grupos oxigenados que se puede emplear como precursor del grafeno o como un material grafénico en sí mismo. Es aislante, higroscópico, con alto contenido en oxígeno y muy hidrofílico. El GO se puede preparar partiendo de grafito (Gr) y sometiéndolo a una oxidación con agentes químicos en medio ácido para obtener así el óxido de grafito (GrO), que posteriormente se exfolia. Una alternativa a la exfoliación mecánica es la exfoliación en fase líquida. Este método se basa en aumentar la distancia interlaminar de las capas del Gr para disminuir la interacción entre ellas (fuerzas de Van der Waals) y poder separar las láminas grafénicas, generalmente usando ultrasonido. Al oxidar el Gr casi se triplica la distancia interlaminar (de ~0,335 a ~0,9 nm) debido a la incorporación de los grupos oxigenados, los cuales además aumentan la hidrofilicidad de las láminas favoreciendo su exfoliación para obtener GO. Basándose en las características estructurales de los grafitos precursores se pueden obtener GOs con altos grados de oxidación, hidroflilicidad y de fácil exfoliación1,2 . El presente trabajo pretende realizar una comparación preliminar de los materiales obtenidos por oxidación química de dos grafitos de diferente cristalinidad.