BECAS
MARTÍNEZ VALDIVIEZO Jeffry Homero
congresos y reuniones científicas
Título:
Fabricación de PICs basados en SiN utilizando litografía por escritura directa con láser UV
Autor/es:
MAURICIO TOSI; JEFFRY H. MARTÍNEZ VALDIVIEZO; ALEJANDRO FASCISZEWKI; LAUREANO A. BULUS-ROSSINI; PABLO. A COSTANZO-CASO
Lugar:
Resistencia - Chaco
Reunión:
Congreso; IEEE ARGENCON 2020; 2020
Institución organizadora:
Facultad Regional Resistencia (UTN).
Resumen:
En este trabajo se presentan resultados preliminares obtenidos en la fabricación de dispositivosfotónicos integrados (PICs) basados en la tecnología de nitruro de silicio. Utilizando litografía por escritura directa con láser UV se definieron estructuras con resoluciones submicrométricas,demostrando la factibilidad de fabricar PICs en las instalaciones de sala limpia del Centro AtómicoConstituyentes (CNEA). La posibilidad de fabricar PICs con esta tecnología permite el desarrollo de dispositivos para diversas aplicaciones de forma rápida y a un costo reducido.
