Estructura cristalográfica de depósitos de fosfuro de indio obtenidos por electrodeposición

GUEIJMAN, S.; SCHVEZOV, C.; LAMAGNA, A.

ANALES AFA – PUBLICACION DE LA ASOCIACION FISICA ARGENTINA

ANALES AFA

Lugar: Pinto 399 – 7000 Tandil; Año: 1997 vol. 9 p. 168 - 174

0327-358X

El fosfuro de indio obtenido por electrodeposición sobre distintos substratos fue caracterizado teniendo en cuenta la morfología y la composición. Se observaron diversas morfologías en los depósitos, tales como películas delgadas y pequeños cristales aislados. La formación depende de la naturaleza del mateial del substrato. Los materiales utilizados como substratos en estos experimentos fueron titanio, silicio y grafito. Los espesores de las películas de fosfuro de indio fueon deteminadas a partir de mediciones de las cocentraciones atómicas normalizadas. Los espesores calculados utilizando esta técnica estuvieron en muy buena concordancia con los resultados obtenidos por métodos inteferométricos. La técnica es no destructiva y puede ser aplicable a películas opacas y a substratos no reflectantes. En el presente trabajo se presenta el modelo empleado para el cálculo de los epesores de películas delgadas, y además, los resultados obtenidos son discutidos y comparados con los determinados mediante otras técnicas.