Patrones y evolución en la ornamentación de antecios en especies pertenecientes al grupo PCK (Poaceae: Panicoideae: Paniceae)

SALARIATO, D.L., ZULOAGA, F.O. & O. MORRONE

Corrientes

Jornada; XXXI Jornadas Argentinas de Botánica; 2007

El grupo "PCK" comprende géneros de gramíneas pertenecientes a la tribu Paniceae que comparten el subtipo fotosintético PEP-ck y la anatomía foliar tipo "PS" con cloroplastos centrífugos. Las especies de Urochloa se caracterizan por presentar antecios superiores transversalmente rugosos. Sin embargo, se ha observado que esta ornamentación es producto de distintos elementos epidérmicos, los cuales pueden generar en combinación diferentes patrones de ornamentación. En este trabajo se analizó mediante microscopia óptica y electrónica la ornamentación en la epidermis de la lemma superior en especies pertenecientes a géneros PCK como Chaetium, Eriochloa, Megathyrsus, Melinis, Moorochloa, Scutachne, Thuarea,, Eriochloa, Megathyrsus, Melinis, Moorochloa, Scutachne, Thuarea, Tricholaena, Urochloa e Yvesia. Los resultados obtenidos mostraron más de 10, Urochloa e Yvesia. Los resultados obtenidos mostraron más de 10 patrones de ornamentación, todos ellos formados por combinación de distintos elementos como verrugas, papilas simples, papilas compuestas, papilas verrugosas y paredes anticlinales transversales y/o periclinales crestadas. Los elementos epidérmicos, así como los patrones de ornamentación en su conjunto, fueron optimizados sobre una filogenía obtenida con secuencias de ADN del cloroplasto. Los análisis mostraron que los elementos epidérmicos presentan mayor homoplasia que los patrones de ornamentación, por lo que estos últimos poseen mayor valor para estudios sistemáticos en el grupo.