Velocidad de inactivación fotocatalítica de esporos de Bacillus subtilis. Dependencia con el flujo de radiación incidente

S. M. ZACARÍAS; M. C. VACCARI ; H. A. IRAZOQUI; G. E. IMOBERDORF; O. M. ALFANO

Santa Fe

Congreso; III CONGRESO ARGENTINO DE LA SOCIEDAD DE TOXICOLOGIA Y QUÍMICA AMBIENTAL (SETAC); 2010

SOCIEDAD DE TOXICOLOGIA Y QUÍMICA AMBIENTAL (SETAC)

En este trabajo se estudio la inactivación fotocatalítica de esporos de Bacillus subtilis dispersos sobre delgadas películas de TiO2 e irradiados con luz UV-A. Los resultados experimentales indican una menor reducción en el número de esporos viables (69% de inactivación en 48 horas de irradiación) cuando fueron irradiados con luz UV-A en placas de vidrio de borosilicato (sin TiO2), confirmando la resistencia de los esporos a la radiación UV-A. Sin embargo, el numero de esporos viables disminuyo significativamente cuando fueron irradiados con luz UV-A bajo condiciones similares pero sobre placas de vidrio de borosilicato recubiertas con TiO2 (99.88% de inactivación en 24 horas de irradiación), mostrando que los esporos de Bacillus subtilis son vulnerables a la inactivación fotocatalítica. Se propuso un esquema simplificado para modelar la inactivación fotocatalítica de esporos de Bacillus subtilis, de donde se derivo una expresión cinética. Dado que la velocidad de inactivación fotocatalítica depende fuertemente del flujo de radiación que llega a la película de TiO2, entonces el campo de radiación se modeló mediante el software CFD. Los resultados experimentales de la inactivación de esporos se ajustaron con la expresión cinética obtenida, mostrando que la velocidad de inactivación tiene una dependencia de la raíz cuadrada con el flujo de radiación que llega a la película fotocatalítica.