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La determinación de espesores de películas delgadas depositadas sobre distintos sustratos es de suma importancia en muchas áreas de la investigación básica o aplicada en física. Existen diversos métodos para este propósito, siendo los más comunes aquellos basados en la espectroscopía óptica por transmitancia o reflectancia. La holografía digital (HD) es una técnica óptica no destructiva mediante la cual se registra un mapa bidimensional de interferencia (holograma) debido a la superposición, sobre un sensor tipo CCD o CMOS, de un haz o frente de onda de referencia y otro proveniente de la muestra bajo estudio (ambos coherentes entre sí), ya sea al ser reflejado o transmitido por ella. El holograma digital así registrado contiene información sobre la morfología tridimensional de la muestra, dado que la intensidad en cada uno de sus píxeleses función de la diferencia de fase (o diferencia de camino óptico) entre los frentes de onda que interfieren. Debido a su alta sensibilidad a diferencias de camino óptico, la HD resulta útil para la determinación precisa de mapas bidimensionales del espesor de películas delgadas, lo cual es superador respecto de las técnicas espectroscópicas que proveen per se sólo un valor medio delespesor sobre el área iluminada de la muestra. En este trabajo estudiamos la implementación de un esquema holográfico simple en configuración Michelson para determinar la distribución de espesores de películas delgadas. Analizamos depósitos de plata, obtenidos por evaporación, y depósitos de óxido de silicio, obtenidos por RF-sputtering, sobre sustratos de silicio monocristalino para testear el desempeño del sistema experimental. Se optimizaron el sistema experimental y los algoritmos numéricos de reconstrucción y corrección de aberraciones ópticas para desarrollar un sistema fiable de medición de espesores de películas delgadas de distinta naturaleza.

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