Crecimiento de películas ultradelgadas de aisladores sobre una superficie metálica: AlF3 sobre Cu(100)

J. C. MORENO-LOPEZ; G. D. RUANO; R. A. VIDAL; M. C. G. PASSEGGI JR.; J. FERRÓN

Rosario - Santa Fé

Congreso; 94º Runión Nacional de Física; 2009

Asociación Física Argentina

El crecimiento de películas ultra delgadas de aisladores sobre superficies metálicas, es un tema que ha atraído mucho interés en los últimos años. Los trabajos realizados en este campo han sido motivados por los cada vez más exigentes requerimientos de calidad, necesarios para desarrollar estructuras a escala nanométrica, dispositivos magnéticos, microelectrónicos, etc. (Z. Zhang et al., Science 276 (1997) 377).Particularmente, las películas de fluoruro de aluminio (AlF3) son de gran interés debido a que bajo irradiación de electrones muestran radiólisis, es decir, desorción de fluoruro con la subsecuente formación de una capa de aluminio metálico.En este trabajo, caracterizamos por medio de microscopia túnel de barrido el crecimiento de pel´ıculas de AlF3 sobre Cu(100). Las imágenes túnel muestran como los escalones del Cu van siendo decorados por islas de fluoruro, hasta llegar a la saturación. Conforme va aumentando la cantidad de fluoruro depositado, comienzan a formarse islas en las terrazas del Cu, las cuales van creciendo en tamaño, mostrando una transición en su forma, de compacta a fractal. Si bien las islas nunca llegan a coalecer, crecen lateralmente formando una película bidimensional hasta un recubrimiento de 0,8 monocapas. A mayores recubrimientos el crecimiento del tipo 2D cambia a 3D.